集成电路设计中，Library Exchange Format（LEF）是一种用ASCII格式表示集成电路物理布局的规范。通常与Design Exchange Format（DEF）结合使用，以表示完整的物理布局。
LEF最初由Tangent公司为其Place and Route（P&R）工具开发，用来获取标准单元的size信息，引脚的位置，以便正确布局布线。因此，它基本上是标准单元布局的抽象形式。后来这些工具被Cadence Design Systems收购，Cadence延续使用了LEF格式。
LEF文件描述的库主要分为两部分。
Technology LEF
Technology LEF定义了金属层的物理信息，site大小，还有一些drc rule。而Cell LEF定义了每个cell的physical信息，比如每个pin的位置，cell的形状大小
以下是展示Technology LEF部分信息的示例快照：
包含了所用工艺的技术信息：
- LEF版本（现在通常用5.8，每个版本都有详细的书写规范）
- 单位（用于数据库、时间、电阻、电容）
- Manufacturing Grids
- 设计规则及BEOL（Back End of Layers）的其他细节
- 层名称（如poly、contact、via1、metal1等）
- 层类型（如路由、主切片、切割等）
- 首选方向（如水平或垂直）
- 间距
- 最小宽度
- 线路电阻
Cell LEF
Cell LEF部分包含标准单元库中每个单元的信息，以下是一个示例：
- 单元名称（如AND2X2、CLKBUF1等）
- 类别（如CORE或PAD）
- 原点位置 0 0
- 尺寸（宽度 x 高度）
- 对称性（如XY、X、Y等）
- 引脚信息
- 引脚名称（如A、B、Y等）
- 方向（如输入、输出、双向等）
- 用途（如信号、时钟、电源等）
- 形状（电源引脚的对齐方式）
- 层（如Metal1、Metal2等）
- 引脚的矩形坐标（llx lly urx ury）